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JCP-350超高真空多功能磁控溅射镀膜机

1、 设备型号:JCP-350,
主要用于制备微、纳米尺度单层及多层导电膜、半导体膜、绝缘膜以及镍、钴磁性材料等薄膜材料。
2、 技术参数:
真空系统复合分子泵+直联旋片泵,真空极限优于6.0×10-5Pa;
抽速从大气抽至6.0×10-3Pa≤15min;
可镀膜尺寸2英寸1片,散片若干;
基片加热与旋转衬底加热:室温~450℃,自动测温,PID控温;
基片旋转:0-20转/分钟,可调可控;
溅射靶规格2英寸,配3只;
膜厚不均匀性≤±5%;
靶材尺寸,φ2英寸,厚度3-5mm
3、 主要功能:可制备亚微米、纳米尺度的单层、双层或多层金属膜、非金属薄膜。

磁控溅射镀膜机

磁控溅射镀膜机

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